Шляхи підвищення селективності при полімеризації (мет) акриламідоарил(мет) акрилатів

Синтез та промислове застосування полімерів з фотоактивними групами протягом останніх десятиріч привернули до себе особливу увагу через можливість їх застосування у таких сучасних виробництвах, як мікроелектроніка, фотолітографія, виробництво рідкокристалічних та голографічних дисплеїв, матеріалів нелінійної оптики, тощо. УФ-опромінення, як виявилося, є могутнім інструментом для швидкого зшивання фоточутливих полімерів та для селективної зміни їх фізико-хімічних характеристик у опромінених місцях.
Полімери з подвійним зв’язком, супряженим з карбонільною групою у головному чи бічному ланцюзі, піддаються зшиванню при УФ опроміненні і можуть застосовуватись як негативні фоторезисти. Ці полімери, маючи високу фоточутливість, здатність утворювати плівки, гарну розчинність перед опроміненням, стійкість до дії розчинників, пластмас та агресивних агентів і хорошою термостабільністю після зшивання, є дуже важливими у промисловому виробництві фоторезистів.
Такі полімери з фотоактивними групами, як циннаматні похідні полі(акрилатів), полі(вінілового спирту), полі(2-гідроксіетилметакрилату) та багато інших систем були запропоновані як негативні фоторезисти. Більшість з них було одержано прищепленням фотоактивних груп до полімерного ланцюга або хімічною модифікацією інших відомих фоточутливих полімерів. Навпаки, синтез кополімерів, що мають відомий склад з фотоактивних мономерів і різних мономерів промислового застосування, є привабливим та економічно вигідним шляхом отримання макромолекул з добре визначеною структурою для практичного використання.

Ключові слова: фоточутливі полімери, синтез мономерів, гомополімеризація, кополімеризація, поліконденсація та полімер аналогічні перетворення, фотохімічне перегрупування Фріса, параметри Алфрея-Прайса.

Ніколаєва О. А. Шляхи підвищення селективності при полімеризації (мет)акриламідоарил(мет)акрилатів : дис. ... канд. хім. наук. : 02.00.06 хімія високомолекулярних сполук / Ніколаєва Олена Аркадіївна. - Київ, 2011. - 157 с.