Шляхи підвищення селективності при полімеризації (мет) акриламідоарил(мет) акрилатів
Тип публікації :
Дисертація
Дата випуску :
2011
Автор(и) :
Ніколаєва Олена Аркадіївна
Науковий(і) керівник(и)/редактор(и) :
Сиромятніков Володимир Георгійович
Мова основного тексту :
ua
eKNUTSHIR URL :
Цитування :
[APA 7] Ніколаєва, О. А. (2011). Шляхи підвищення селективності при полімеризації (мет) акриламідоарил(мет) акрилатів [Дис. канд. хім. наук., Київський національний університет імені Тараса Шевченка]. eKNUTSHIR. https://ir.library.knu.ua/handle/123456789/5101
[ДСТУ] Ніколаєва О. А. Шляхи підвищення селективності при полімеризації (мет) акриламідоарил(мет) акрилатів : дис. … канд. хім. наук. : 10 Природничі науки. Київ, 2011. 157 с. URL: https://ir.library.knu.ua/handle/123456789/5101 (дата звернення: 25.07.2026).
Синтез та промислове застосування полімерів з фотоактивними групами протягом останніх десятиріч привернули до себе особливу увагу через можливість їх застосування у таких сучасних виробництвах, як мікроелектроніка, фотолітографія, виробництво рідкокристалічних та голографічних дисплеїв, матеріалів нелінійної оптики, тощо. УФ-опромінення, як виявилося, є могутнім інструментом для швидкого зшивання фоточутливих полімерів та для селективної зміни їх фізико-хімічних характеристик у опромінених місцях.
Полімери з подвійним зв’язком, супряженим з карбонільною групою у головному чи бічному ланцюзі, піддаються зшиванню при УФ опроміненні і можуть застосовуватись як негативні фоторезисти. Ці полімери, маючи високу фоточутливість, здатність утворювати плівки, гарну розчинність перед опроміненням, стійкість до дії розчинників, пластмас та агресивних агентів і хорошою термостабільністю після зшивання, є дуже важливими у промисловому виробництві фоторезистів.
Такі полімери з фотоактивними групами, як циннаматні похідні полі(акрилатів), полі(вінілового спирту), полі(2-гідроксіетилметакрилату) та багато інших систем були запропоновані як негативні фоторезисти. Більшість з них було одержано прищепленням фотоактивних груп до полімерного ланцюга або хімічною модифікацією інших відомих фоточутливих полімерів. Навпаки, синтез кополімерів, що мають відомий склад з фотоактивних мономерів і різних мономерів промислового застосування, є привабливим та економічно вигідним шляхом отримання макромолекул з добре визначеною структурою для практичного використання.
Ключові слова: фоточутливі полімери, синтез мономерів, гомополімеризація, кополімеризація, поліконденсація та полімер аналогічні перетворення, фотохімічне перегрупування Фріса, параметри Алфрея-Прайса.
Полімери з подвійним зв’язком, супряженим з карбонільною групою у головному чи бічному ланцюзі, піддаються зшиванню при УФ опроміненні і можуть застосовуватись як негативні фоторезисти. Ці полімери, маючи високу фоточутливість, здатність утворювати плівки, гарну розчинність перед опроміненням, стійкість до дії розчинників, пластмас та агресивних агентів і хорошою термостабільністю після зшивання, є дуже важливими у промисловому виробництві фоторезистів.
Такі полімери з фотоактивними групами, як циннаматні похідні полі(акрилатів), полі(вінілового спирту), полі(2-гідроксіетилметакрилату) та багато інших систем були запропоновані як негативні фоторезисти. Більшість з них було одержано прищепленням фотоактивних груп до полімерного ланцюга або хімічною модифікацією інших відомих фоточутливих полімерів. Навпаки, синтез кополімерів, що мають відомий склад з фотоактивних мономерів і різних мономерів промислового застосування, є привабливим та економічно вигідним шляхом отримання макромолекул з добре визначеною структурою для практичного використання.
Ключові слова: фоточутливі полімери, синтез мономерів, гомополімеризація, кополімеризація, поліконденсація та полімер аналогічні перетворення, фотохімічне перегрупування Фріса, параметри Алфрея-Прайса.
Галузі знань та спеціальності :
10 Природничі науки
102 Хімія
Файл(и) :![Ескіз]()
Вантажиться...
Формат :
Adobe PDF
Розмір :
1.73 MB
Контрольна сума :
(MD5):a32618494dae1481d558ee41400878d9
Якщо не вказано інше, ця робота розповсюджується на умовах ліцензії Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International