Репозитарій КНУ
Увійти(current)
  1. Головна
  2. Матеріали конференцій | Conference materials
  3. Тези конференцій | Conference papers
  4. Light-activated photoluminescence of porous silicon

Light-activated photoluminescence of porous silicon

Тип публікації :
Тези конференції
Дата випуску :
20 квітня 1998 р.
Автор(и) :
Boltovec, Mykola S.
Даценко, Олександр Іванович  
Кафедра оптики  
Naumenko, Svitlana M.
Ostapchuk, Tetjana V.
Rudenko, Olga V.
Науковий(і) керівник(и)/редактор(и) :
Sergey V. Svechnikov
Mikhail Y. Valakh
Мова основного тексту :
Англійська
eKNUTSHIR URL :
https://ir.library.knu.ua/handle/15071834/8434
DOI :
10.1117/12.306217
Конференція/Видання :
Optical Diagnosis of Materials and Devices for Opto-, Micro-, and Quantum Elec-tronics 1997
Том :
3359
ISSN :
0277-786X
Початкова сторінка :
227
Кінцева сторінка :
231
Цитування :
[APA 7] Boltovec, M. S., Даценко, О. І., Naumenko, S. M., Ostapchuk, T. V., & Rudenko, O. V. (1998). Light-activated photoluminescence of porous silicon. In V. S. Sergey, & Y. V. Mikhail (Eds.), Optical Diagnosis of Materials and Devices for Opto-, Micro-, and Quantum Elec-tronics 1997 (pp. 227–231). https://doi.org/10.1117/12.306217
[ДСТУ] Light-activated photoluminescence of porous silicon / M. S. Boltovec et al. Optical Diagnosis of Materials and Devices for Opto-, Micro-, and Quantum Elec-tronics 1997 : матеріали конф. / за ред. V. S. Sergey, Y. V. Mikhail. Kyiv : SPIE, 1998. P. 227—231. DOI: 10.1117/12.306217 (date of access: 25.07.2026).
Samples ofporous silicon (PS) were etched in concentrated hydrofluonc acid. The initial and etched samples were exposed to the air by pairs at room temperature either in the dark or in daylight. In the process of exposition the integrated intensity of photoluminescence (IPL) excited by a nitrogen laser (337 nm) was measured in regular time intervals on all samples. It has been established that when samples are exposed to the light their 'PL rises with lime, increasing more rapidly in the etched samples than in the nonetched ones. 'PL of the etched samples flattened out after several weeks, while that of the nonetched ones — after several months. 'PL ofthe samples that were in the dark practically did not change with time. It is shown that the rate of 'PL nse depends on a degree of ionization of the air where the samples were located. The results obtained confirm the idea that one ofthe main factors limiting the quantum yield of PS photolurninescence is the nonradiative recombmation that results from the presence ofdangling bonds which may be saturated by the light-generated air ions.
Ключові слова :
porous silicon photoluminescence air ionization
Галузі знань та спеціальності :
10 Природничі науки::104 Фізика та астрономія
Галузі науки і техніки (FOS) :
Фізичні науки
Файл(и) :
Вантажиться...
Ескіз
Формат :

Adobe PDF

Розмір :

1013.76 KB

Контрольна сума :

(MD5):48bcd74c94c7aad1bc2344cc1f1271ce

Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 International
Якщо не вказано інше, ця робота розповсюджується на умовах ліцензії Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 International
Контакти
  • ir.library@knu.ua
  • (044) 239-33-30
  • м. Київ, вул. Володимирська, 58, к. 42

Побудовано за допомогою Програмне забезпечення DSpace-CRIS - Розширення підтримується та оптимізується 4Наука

  • Доступність
  • Політика приватності
  • Угода користувача
  • Надіслати відгук